電鍍廢水處理中不同廢水處理流程
文章出處:污水處理知識(shí) 責(zé)任編輯:漓源環(huán)保工業(yè)污水處理 閱讀量:- 發(fā)表時(shí)間:2018-09-19
標(biāo)簽:電鍍廢水處理
電鍍生產(chǎn)工藝有很多種,由于電鍍工藝不同,所產(chǎn)生的廢水也各不相同,一般電鍍企業(yè)所排出的廢水包括有酸、堿等前處理廢水,氰化鍍銅的含氰廢水、含銅廢水、含鎳廢水、含鉻廢水等重金屬?gòu)U水。此外還有多種電鍍廢液產(chǎn)生。對(duì)于含不同類型污染物的電鍍廢水有不同的電鍍廢水處理方法,分別介紹如下:
1.含氰廢水
目前處理含氰廢水比較成熟的技術(shù)是采用堿性氯化法處理,必須注意含氰廢水要與其它廢水嚴(yán)格分流,避免混入鎳、鐵等金屬離子,否則處理困難。
該法的原理是廢水在堿性條件下,采用氯系氧化劑將氰化物破壞而除去的方法,處理過(guò)程分為兩個(gè)階段,一階段是將氰氧化為氰酸鹽,對(duì)氰破壞不徹底,叫做不完全氧化階段,二階段是將氰酸鹽進(jìn)一步氧化分解成二氧化碳和水,叫完全氧化階段。
反應(yīng)條件控制:
一級(jí)氧化破氰:pH值10~11;理論投藥量:簡(jiǎn)單氰化物CN-:Cl2=1:2.73,復(fù)合氰化物CN-:Cl2=1:3.42。用ORP 儀控制反應(yīng)終點(diǎn)為300~350mv,反應(yīng)時(shí)間10~15分鐘。
二級(jí)氧化破氰:pH值7~8(用H2SO4回調(diào));理論投藥量:簡(jiǎn)單氰化物CN-:Cl2=1:4.09,復(fù)合氰化物CN-:Cl2=1:4.09。用ORP儀控制反應(yīng)終點(diǎn)為600~700mv;反應(yīng)時(shí)間10~30分鐘。反應(yīng)出水余氯濃度控制在3~5mg/1。處理后的含氰廢水混入電鍍綜合廢水里一起進(jìn)行處理。
2.含鉻廢水
含六價(jià)鉻廢水一般采用鉻還原法進(jìn)行處理,該法原理是在酸性條件下,投加還原劑硫酸亞鐵、亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、二氧化硫等,將六價(jià)鉻還原成三價(jià)鉻,然后投加氫氧化鈉、氫氧化鈣、石灰等調(diào)pH值,使其生成三價(jià)鉻氫氧化物沉淀從廢水中分離。
還原反應(yīng)條件控制:
加硫酸調(diào)整pH值在2.5~3,投加還原劑進(jìn)行反應(yīng),反應(yīng)終點(diǎn)以O(shè)RP儀控制在300~330mv,具體需通過(guò)調(diào)試確定,反應(yīng)時(shí)間約為15-20分鐘。攪拌可采用機(jī)械攪拌、壓縮空氣攪拌或水力攪拌。
混凝反應(yīng)控制條件:
PH值:7~9,反應(yīng)時(shí)間:15~20分鐘。
3.綜合重金屬?gòu)U水
綜合重金屬?gòu)U水是由含銅、鎳、鋅等非絡(luò)合物的重金屬?gòu)U水以及酸、堿前處理廢水所組成。此類廢水處理方法相對(duì)簡(jiǎn)單,一般采用堿性條件下生成氫氧化物沉淀的工藝進(jìn)行處理。
處理工藝流程如下:
綜合重金屬?gòu)U水→調(diào)節(jié)池→快混池→慢混池→斜管沉淀池→過(guò)濾→pH回調(diào)池→排放
反應(yīng)條件一般控制在pH值9~10,具體pH條件由調(diào)試時(shí)確定。反應(yīng)時(shí)間快混池為20~30分鐘,慢混池10~20分鐘。攪拌方式以機(jī)械攪拌好,也可用空氣攪拌。
4.多種電鍍廢水綜合處理
當(dāng)一個(gè)電鍍廠含有多種電鍍廢水,如含氰廢水、含六價(jià)鉻廢水、含酸堿、重金屬銅、鎳、鋅等綜合廢水,一般采取廢水分流處理的方法,首先含氰廢水、含鉻廢水應(yīng)從生產(chǎn)線單獨(dú)分流收集后,分別按照上述對(duì)應(yīng)的方法對(duì)含氰、含鉻廢水進(jìn)行處理,處理后的廢水混入綜合廢水中與其一起采用混凝沉淀方法進(jìn)行后續(xù)處理。
處理工藝流程如下:
含氰廢水→調(diào)節(jié)池→一級(jí)破氰池→二級(jí)破氰池→綜合廢水池
含鉻廢水→調(diào)節(jié)池→鉻還原池→綜合廢水池
綜合廢水→綜合廢水池→快混池→慢混池→斜管沉淀池→中間池→過(guò)濾器→pH回調(diào)池→排放